同方威视请求辐射成像体系和办法专利进步辐射勘探质量

来源:M6米乐最新下载地址    发布时间:2024-12-17 23:05:18

  金融界2024年10月21日音讯,国家知识产权局信息数据显现,同方威视技能股份有限公司请求一项名为“辐射成像体系和办法”的专利,揭露号 CN 118758980 A,请求日期为2021年7月。

  专利摘要显现,本揭露提出一种辐射成像体系和办法,触及辐射勘探技能领域。本揭露的一种辐射成像体系包含:光电二极管勘探器,被装备为接纳来自射线源的射线,并生成榜首勘探信号;榜首成像设备,与光电二极管勘探器衔接,被装备为依据榜首勘探信号生成榜首成像数据;计数勘探器,坐落光电二极管勘探器的远离射线接纳面的一侧,被装备为接纳穿过光电二极管勘探器的射线,生成第二勘探信号;计数成像设备,与计数勘探器衔接,被装备为依据第二勘探信号生成计数成像数据;和图画交融设备,被装备为依据榜首成像数据和计数成像数据,获取榜首交融图画,进步辐射勘探质量。